Industrieclub Düsseldorf, Elberfelder Str. 6, 40213 Düsseldorf
05.03.09 09:00 - 06.03.09 - 12:30

8. Düsseldorfer Patentrechtstage 2009

Düsseldorfer Patentrechtage am 05. und 06. März 2009

Die Düsseldorfer Patentrechtstage sind die Jahrestagung zum Patentrecht des Zentrums für Gewerblichen Rechtsschutz (CIP).

Düsseldorfer Patentrechtstage 2009

 

Christian Steigüber

Die Düsseldorfer Patentrechtstage jährten sich am 05.- 06. März das achte Mal. Herr Prof. Dr. Busche und Herr RiBGH Prof. Dr. Meier-Beck luden als Leiter traditionsgemäß zur Jahrestagung des Zentrums für Gewerblichen Rechtsschutz der Heinrich-Heine-Universität in den historischen Plenarsitzungssaal des Präsidentschlößchens der Bezirksregierung in Düsseldorf ein.

Am Donnerstag, den 5. März, eröffnete MinR Dr. Stefan Walz (Bundesministerium der Justiz, Berlin) die Tagung mit einem Überblick über die Gesetzgebungsvorhaben auf dem Gebiet des Gewerblichen Rechtsschutzes. Ein Aspekt, der auch in der Aussprache aufgegriffen wurde, war dabei erneut die Einführung eines Gemeinschaftspatents.

Im Anschluss lag ein Schwerpunkt der Referate auf der nationalen und europäischen Entscheidungspraxis im Patentrecht. So besprachen Herr RiBGH Uwe Scharen (X. Zivilsenat), Herr RiOLG Dr. Hermann Deichfuß (OLG Karlsruhe), Herr VorsRiBPatG Dr. Volker Winterfeldt (Bundespatentgericht, München) und Herr Peter Mühlens (Mitglied der juristischen Beschwerdekammer beim EPA, München) die Entscheidungspraxis der Gerichte und des Europäischen Patentamtes im zurückliegenden Jahr. Besonders die Anwaltschaft zeigte ein reges Interesse an den hochaktuellen Entwicklungen der patentrechtlichen Praxis. Bis zu 90 Zuhörer füllten den Sitzungssaal bis auf den letzten Platz.

Am Nachmittag leitete der Workshop zur „Durchsetzung technischer Schutzrechte in Asien – Entwicklungen und Tendenzen in China, Japan und Korea“ zu einem weiteren thematischen Schwerpunkt der Tagung über, denn auch am Freitag, den 6. März, wurde der fernost-asiatische Patentschutz vertiefend behandelt. Am Donnerstag gewährten zunächst Herr Ryoichi Mimura (Richter am Oberlandesgericht, Tokyo, Japan), Herr Prof. Xiaohai Liu (Tongji Universität Shanghai, China) und Herr Dae Woong Noh (Patentanwalt, Kanzlei Kim&Chang, Seoul, Süd-Korea) einen Einblick in den Patentschutz ihrer Heimatländer. Zu ihnen gesellten sich Herr Dr. Ralph Nack (Senior European Consultant, Bird&Bird, München) und Herr Dr. Christof Wilk (Corporate Vice President Patents, Henkel, Düsseldorf) als deutsche Patentrechtler mit einschlägiger Asienerfahrung.

Gemeinsam ließ man schließlich den Tag bei einem Empfang mit Abendessen und musikalischer Begleitung im Klosterhof maxhaus in entspannter Atmosphäre ausklingen.

Am zweiten Tag vertiefte zunächst Herr Richter Mimura seine Ausführungen zum japanischen Patentschutz. Herr Prof. Liu referierte ausführlich zu den wichtigsten Änderungen der am 01.10.2009 in Kraft tretenden Novellierung des chinesischen Patentgesetzes, welche der Verstärkung der Schutzwirkung des chinesischen Patents dienen soll.

In einer nachfolgenden Diskussionsrunde wurden mit Unterstützung von Herrn Rechtsanwalt Dr. Guntram Rahn (Hoffmann Eitle, München) und Herrn Dr. Tilman Breitenstein (Senior Patent Counsel, Bayer, Leverkusen) Unterschiede und Gemeinsamkeiten zum deutschen Recht auf den Prüfstand gestellt.

Bezüglich der Patentanmeldung, der Patenterteilung und der Durchsetzung von Patenten in China konnte im Verlauf der Tagung eine Vielzahl von Hürden und Besonderheiten ausgemacht werden. Dazu gehörte zunächst die Sprachbarriere. Im Rahmen der Patentanspruchsformulierung ist besondere Sensibilität angebracht. Angesichts der Komplexität der chinesischen Sprache kann mangelnde Sorgfalt bei der Übersetzungsarbeit oder Übersetzerauswahl den Wert des Rechts entscheidend mindern oder gar ausschließen. Zum anderen wurde auf den nicht unmaßgeblichen Einfluss chinesischer Politik auf Patentstrategien hingewiesen und mögliche Umgangsweisen damit erläutert. Darüber hinaus sei Vorsicht im Umgang mit Kooperationsanbahnungen angeraten. In materiellrechtlicher Hinsicht kommt dem chinesischen Geschmackmuster eine oft zielführende Ergänzungsfunktion für den Schutz technischen und nichttechnischen geistigen Eigentums zu. Dies belegen jüngere Entscheidungen (z.B. MAN/Neoplan gegen Zonda) chinesischer Gerichte. Herr Prof. Liu wies für die Zukunft auf Änderungen für den Schutz von bio- und vor allem gentechnologischer Erfindungen hin. Der gesteigerte Schutz genetischer Ressourcen in den kommenden § 26 Abs. 6 und § 5 Abs. 2 PatG wird nach Auffassung von Herrn Dr. Breitenstein die Industrie vor nicht unerhebliche Schwierigkeiten stellen. Des Weiteren standen unter anderem die Neuregelungen für gemeinschaftliche Erfindungen, die Abschaffung der Pflicht zur ersten inländischen Patentanmeldung und die Zulassung eines „Formstein“-einwandes im Mittelpunkt des Interesses. Für den letzten Punkt galt dies vor allem auch vor dem Hintergrund des koreanischen Rechts. Herr Noh hatte tags zuvor über Ausnahmefälle berichtet, in denen das grundsätzlich geltende prozessuale Trennungsprinzip im Verletzungsverfahren außer Acht gelassen wird und sich so von der strikten deutschen Umsetzung unterscheidet. Nicht zuletzt waren die richtige Wahl des Gerichts für Patentverletzungstreitigkeiten und der Weg dorthin ein weiteres Thema. Mangels technischer Richter oder Hilfskräfte kristallisierte sich die besondere Rolle der Gerichte in Beijing und Shanghai heraus, die über Erfahrungen mit Patentverletzungsstreitigkeiten verfügen. Die neue Arbeitnehmererfindungsvergütungsregelung des kommenden chinesischen Patentgesetzes ähnelt den deutschen Vorschriften, enthält allerdings zahlreiche dispositive Regelungen.

In diesem Kontext berichtete Herr Richter Mimura über neuere Entwicklungen in der japanischen Vergütungspraxis, wobei fallweise sehr hohe Vergütungen zugesprochen wurden. Darüber hinaus berichtete Herr Richter Mimura über das japanische Gerichtssystem und die relativ neue Regelung zur Beweisaufnahme unter Anordnung der. Danach kann der Prozessgegner in einem Patentverletzungsverfahren mittels verschiedener Verfahrenstechniken (In-camera Verfahren oder strafbewehrte Verschwiegenheits-erklärungen) die Geheimnisse seiner Technik wahren, ohne dass der Patentinhaber auf Klärung der Sachlage verzichten muss. Nach allerjüngster Entscheidung des Obersten Gerichtshofes aus dem Januar dieses Jahres kann die Geheimhaltungsanordnung auch im einstweiligen Verfahren angewendet werden.

Am Freitagmittag beendete ein Imbiss die Veranstaltung und so bleibt zunächst die Vorfreude auf die nächsten Düsseldorfer Patentrechtstage, die am 4. und 5. März 2010 stattfinden werden.

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